九州産業大学で開催された西日本腐蝕防蝕研究会第207回例会にて以下の発表を行いました。

「硫化物イオン含有アルカリ浴からのアンチモンの電析挙動に関する基礎研究」(口頭発表)
B4 田中 浩陽, 髙野 智暉, 谷ノ内 勇樹, 中野 博昭

「硫化銀を添加した合成黄銅鉱の酸化浸出挙動」(口頭発表)
B4 上野 隼誠, 小森田 勝也, 谷ノ内 勇樹, 中野 博昭

「電析Ni膜中の水素拡散挙動に及ぼす結晶粒径の影響」(口頭発表)
M2 小森 麻衣, 大上 悟, 谷ノ内 勇樹, 中野 博昭